近日，凝固技术国家重点实验室齐卫宏教授在材料领域权威期刊《Advanced Functional Materials》上发表了摩尔纹调控二维范德华异质结材料电子结构的综述论文：“Moiré-Pattern-Tuned Electronic Structures of van der Waals Heterostructures”。《Advanced Functional Materials》是德国出版集团Wiley旗下顶级期刊。论文的通信作者是齐卫宏教授，第一作者是博士生汤可为，西北工业大学凝固技术国家重点实验室是论文唯一完成单位。

当两种二维材料堆叠时，由于晶格失配或者层间旋转可形成摩尔纹（Moiré patterns）。二维范德华异质结材料的电子结构与其摩尔纹紧密联系，该研究目前是材料学科的前沿和热点。齐卫宏教授详细综述了莫尔纹调制二维范德华异质结材料电子结构的最新进展，包括莫尔能带、狄拉克锥、表面重构、莫尔激子、莫尔谷电子学、斯托纳磁性、超导电性、超流等。作者还展望了摩尔纹体系的应用前景，如层间激子在光电子器件中的应用、拓扑谷自旋电子器件的构造、二维材料超润滑体系的设计等。

论文链接：https://onlinelibrary.wiley.com/doi/full/10.1002/adfm.202002672

齐卫宏，教授、博士生导师，教育部新世纪优秀人才，湖南省杰出青年基金获得者；主要从事二维材料物理、计算材料及纳米摩擦学的研究；在Accounts of Chemical Research等刊物上发表论文130篇，被引3000次；现为刘维民院士团队成员。

（审核：刘伟）